半导体材料生长技术

　　本册共6章，详细说明各种Ⅲ-V族化合物半导体的外延生长技术和材料缺陷，讨论了液相外延、分子束外延、常压和低压金属有机化学汽相沉积，以及卤化物和氯化物输运汽相沉积等各项技术。

暂缺《半导体材料生长技术》作者简介