离子束沉积薄膜技术及应用

第一章 离子束沉积（IBD）薄膜原理
  1.1 离子束的输运及非热平衡沉积薄膜过程
   1.1.1 运行离子的碰撞现象
   1.1.2 非热平衡条件下的IBSD薄膜原理
  1.2 离子束溅射粒子的基本性质
   1.2.1 溅射原子通量的构成
   1.2.2 溅射原子通量的分布
   1.2.3 溅射合金成分原子通量的分布
   1.2.4 溅射原子能量的分布
   1.2.5 合金的溅射特性
   1.2.6 超薄薄膜的生长
   1.2.7 氧化物的溅射特点
  1.3 惰性气体离子的气种效应
   1.3.1 薄膜质量厚度分析及晶格膨胀现象
   1.3.2 薄膜中掺气的气种效应
   1.3.3 气种效应改变薄膜性抽的典型实例
  1.4 离子束轰击固体表面引起的重要效应
   1.4.1 离子束清洗和增强薄膜附着力的作用
   1.4.2 离子束轰击引起材料表面损伤及缺陷增强扩散现象
   1.4.3 离子束轰击引起的表面结构再造现象
   1.4.4 离子束轰表面结构再造技术的应用
第二章 IBSD薄膜技术
  2.1 控制生长薄膜结构及性质的方法
……
  2.2 薄膜晶体结构的形成及演变
  2.3 薄膜结构与薄膜内应力
  2.4 IBSD薄膜技术的典型应用
第三章 双离子束溅射沉积（DIBSD）薄膜技术
  3.1 Ar+离子束溅射沉积薄膜改性方法
  3.2 双离子束技术的近期进展
第四章 IBRSD薄膜方法及应用
  4.1 IBRSD过程的基本方式
  4.2 IBRSD及反应合成化合物薄膜
  4.3 IBRSD IV A和IV B族过渡金属氮化物薄膜
  4.4 IBRSD氧化物薄膜
第五章 IBAD薄膜方法及应用
  5.1 离子轰击对生长薄膜的基本作用
  5.2 IBAD薄膜方法概述
  5.3 IBAD薄膜方法的基础
  5.4 IBAD光学薄膜的应用
参考文献