真空微电子学及其应用

1 绪论
1.1 引言
1.2 真空微电子学的发展历史
1.3 真空微电子学的特点和内容
1.4 真空微电子学的应用与发展趋势
思考题与习题
参考文献
2 场致发射
2.1 引言
2.2 表面电子特性
2.3 金属场致发射
2.4 半导体场致发射
2.5 内场致发射
2.6 场致发射电子的能量分布和Nottingham效应
2.7 空间电荷效应
思考题与习题
参考文献
3 器件物理与特性分析
3.1 引言
3.2 场致发射公式的特性
3.3 真空条件和FEA结构分析
3.4 FEA结构优化和理论极限
3.5 FEA热稳定性和材料选择
3.6 FEA阵列特性估算
思考题与习题
参考文献
4 数值计算与器件特性模拟
4.1 引言
4.2 数值计算模型的建立
4.3 静电场的数值模拟
4.4 电子轨迹及发射电流的计算
4.5 场致发射器件特性模拟
思考题与习题
参考文献
5 器件制造与工艺
5.1 引言
5.2 纵向器件的制备
5.3 横向器件的制备
5.4 器件封装
5.5 器件制备中所涉及的重要工艺
思考题与习题
参考文献
6 真空微电子器件
6.1 引言
6.2 真空集成电路有源元件
6.3 高频和微波器件
6.4 电子源和微电子光学系统
6.5 场致发射显示屏
6.6 传感技术
6.7 显微技术
思考题与习题
参考文献