金属陶瓷薄膜及其在光电子技术中的应用

序
前言
第1章 金属陶瓷薄膜的制备
1.1 金属陶瓷薄膜制膜材料的选择和膜系设计
1.2 金属陶瓷薄膜制备中的困难与解决途径
1.3 金属陶瓷薄膜的制备方法
第2章 金属陶瓷薄膜的分析方法
2.1 X射线衍射和电子衍射分析方法
2.2 电子能谱分析方法
2.3 红外光谱和拉曼光谱分析方法
2.4 紫外-可见光谱分析方法
2.5 椭圆偏振光谱分析方法
2.6 Z-扫描分析方法
2.7 薄膜应力分析方法
第3章 金属陶瓷薄膜的理论基础
3.1 Maxwell-Garnett弥散微结构理论
3.2 Bruggeman聚集微结构理论
3.3 Bergman渗透阈理论
3.4 Ping Sheng双团簇微结构理论
3.5 Stroud-Milton-De复折射率理论
3.6 多相混合模型
3.7 介电函数理论对光学双稳态的计算
第4章 金属陶瓷薄膜的光学性能
4.1 一般光学性能
4.2 光学共振吸收
4.3 光学带隙
4.4 光学双稳态
4.5 拉曼散射
第5章 金属陶瓷薄膜的电磁学性能
5.1 导电性能
5.2 巨磁电阻效应
5.3 巨霍尔效应
5.4 介电性能
第6章 金属陶瓷薄膜的若干应用
6.1 在光子技术方面的应用
6.2 在计算机技术方面的应用
6.3 在微、纳电子技术方面的应用
6.4 在传感器技术方面的应用
6.5 多频三维只读光盘