离子束表面工程技术与应用

前言
第1章 离子束表面工程技术概述
1.1 离子束表面工程技术原理
1.2 离子束注入的特点和局限性
1.3 离子束表面工程技术的发展概况
第2章 离子束注入技术
2.1 离子束注入技术简介
2.2 非金属离子注入
2.3 金属离子注入
2.4 离子注入WC合金钢
2.5 离子注入改善TiN和TiC沉积膜特性
2.6 长程离子注入
2.7 双注入
2.8 共注入
2.9 离子注入材料的性能改善
2.10 离子注入工业应用
第3章 离子束增强沉积技术
3.1 简介
3.2 金属膜的制备和特性
3.3 超硬陶瓷膜
3.4 类金刚石膜
3.5 固体滑润膜
3.6 光学膜
3.7 c-BN膜的制备和特性
3.8 β-C3N4膜
3.9 离子增强沉积的工业应用
第4章 磁过滤离子束沉积技术
4.1 简介
4.2 磁过滤离子束金刚石薄膜沉积的应用
4.3 Ti沉积改善H13钢抗腐蚀性能
4.4 Ti+C+N共沉积膜的制备及其性能改善
4.5 聚合物表面沉积
4.6 Mo+C和Ti+C共沉积MoC膜和TiC膜工艺和特性
4.7 Ti+Fe+C三元共沉积膜的特性
4.8 靶加热NbN沉积膜的特性
4.9 高压负脉冲沉积薄膜的特性
4.10 超厚膜的形成
4.11 离子束沉积
4.12 降低膜的内应力途径
4.13 增强膜与基体粘合强度的途径
4.14 DLC膜的制备、特性和应用
4.15 磁过滤制膜特性和应用综述
第5章 全方位离子注入技术
第6章 强脉冲离子束材料改性技术
第7章 离子束创建新型制膜工程
第8章 离子束技术发展展望
参考文献