本书旨在综合介绍近年来微纳米加工技术的进展。全书共分为8章以微纳米加工的关键技术为主线，即微纳米光刻技术，其中包括光学曝光加工，电子束曝光加工，聚焦离子束加工，微纳米图形转移技术，微纳米图形复制技术，重点介绍这写技术的特点，典型设备，关键工艺技术，与其他类似技术的比较，近年来的新发展，未来的发展趋势。在介绍中以国际上近年来发表的文献为基础，包括作者近十余年来在这一领域的研究成果和经验。每一种技术的介绍着重解释清楚基本概念。不偏重于深奥的理论，而侧重于阐述实际应用中所遇到的问题和解决办法。本书的最后一章为微纳米加工技术的应用，包括了当今最热门的高科技领域，如微纳米电子学，高密度磁存储，微机电系统，生物芯片与纳米技术。介绍微纳米加工技术在这些领域的所起的关键作用。全书各章都附有详细的参考文献。本书最后附有中英文名词对照与索引。为读者进一步参阅国外文献资料提供了方便。本书的读者对象为大专院校高年级研究生，大学教师，从事微电子工艺，微系统技术与纳米技术的科学工作者及工程技术人员，从事微电子工艺技术，超大规模集成电路工艺技术的从业人员。
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