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电子束曝光微纳加工技术

电子束曝光微纳加工技术

定 价:¥50.00

作 者: 顾文琪编
出版社: 北京工业大学出版社
丛编项: 电子束离子束光子束微纳加工技术系列专著
标 签: 电子其他

ISBN: 9787563913008 出版时间: 2004-07-01 包装: 平装
开本: 16 页数: 310 字数:  

内容简介

  本书系统地介绍了电子束曝光技术的发展历史和原理、系统的组成和分类、应用和发展前景,同时详细介绍了多种先进的电子束曝光机的性能和技术指标,电子光学柱、精密工件台等分部件和掩模版制作、电子束直刻等关键技术。全书共分10章,第一章为电子束曝光技术概论;第二章为电子束曝光机中的电子光学系统;第三章为工件台及激光干涉仪精密定位;第四章为图形发生器;第五章为检测、对准和校正技术;第六章为电子束曝光机的计算机控制技术和数据转换;第七章为电子束曝光制图艺;第八章为真空控制系统;第九章为国内外几种束曝光机的介绍;第十章为电子束曝光技术的应用和发展前景。 本书可作为微电子专业领域的科技人员和从事微电子、微光学、微机械等微纳加工技术领域的科技人员的技术参考书,财同时还可作为高等院校专业教师、研究生的参考用书。

作者简介

  顾文琪,1941年生,中国科学院电工研究所研究员,博导,曾任中国科学院电工研究所微细加工研究室主任、副所长,中国科学院高技术局局长、综合计划局局长。1967年起在中国科学院电工研究所工作,曾任该所微细加工研究室主任、副所长,中国科学院高技术局局长、中国科学院综合计划局局长。现任该所研究员、博士生导师,中国科学院创新工程重大项目负责人。顾文琪研究员,长期工作在微细加工科研领域,从事电子束曝光技术的研究,注重于电子束曝光系统总体设计和电子光学柱设计,发表论文40多篇。先后主持和参与1:1电子束投影系统、可变矩型电子束曝光机、亚微米电子束曝光机以及0.1微米电子束曝光机装置研究,目前正主持中国科学院创新工程重大项目——电子束缩小投影成像曝光系统研究,该项目主攻21世纪纳米电子束光刻技术。顾文琪研究员,先后获得中国科学院科技进步二等奖3项:DY-5型亚微米电子束曝光机研制、微米级电子束曝光机实用化、管理现代化的研究和实践。

图书目录

前言
第一章 电子束曝光技术概论
第一节 微纳加工与曝光技术
第二节 电子束曝光技术的发展历史及原理
第三节 不同类型的电子束曝光系统
参考文献
第二章 电子束曝光机中的电子光学系统
第一节 概述
第二节 电子光学基础
第三节 电子束曝光机的透镜
第四节 电子束曝光机的电子枪
第五节 电子光住的对中系统
第六节 电子束曝光机的偏转扫描系统
第七节 束闸及其控制
第八节 电子光学系统的像差
第九节 电子束曝光机聚焦成像和偏转系统的设计计算
参考文献
第三章 工件台及激光干涉仪精密定位
第一节 精密工件台技术的发展概况
第二节 激光干涉仪测量系统
第三节 双频激光干涉仪产品介绍
第四节 测量误差分析及激光干涉仪的安装与调整
第五节 精密工件台
第六节 微动工件台
第七节 自动输片系统
第八节 工件台的驱动与控制
参考文献
第四章 图形发生器;第五章为检测、对准和校正技术
第一节 扫描圆形电子束曝光机的图形发生器
第二节 可变矩形电子束曝光机的图形发生器
第三节 光栅扫描电子束曝光机的图形发生器
第四节 以DSP为基础的新型图形发生器
第五节 图形发生器的执行部件
参考文献
第六章 电子束曝光机的计算机控制技术和数据转换
第一节 检测、对准和校正技术的意义和作用
第二节 电子与固体的相互作用
第三节 电子束曝光机常用的几种信号及检测器
第四节 检测对准校正原理及方法
第五节 影响电子束曝光机精度的因素及分析方法
参考文献
第七章 电子束曝光制图艺
……
第八章 真空控制系统
第九章 国内外几种束曝光机的介绍
第十章 电子束曝光技术的应用和发展前景。

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