表面分析引论（XPS和AES）

1　电子能谱：一些基本概念
　1.1　表面分析
　1.2　能谱标识方法
　1.2.1　谱学家标识方法
　 1.2.2　X射线标识方法
　1.3　x射线光电子能谱（XPS）
　1.4　俄歇电子能谱（AES）
　1.5　扫描俄歇电子显微镜（SAM）
　1.6　电子能谱中的分析深度
　1.7　比较ⅪPS和AES／SAM
　1.8　表面分析设备
2　电子能谱仪构造
　2.1　真空系统
　2.2　样品
　2.3　X射线源
　2.3.1　双阳极×射线源
　 2.3.2　X射线单色器
　2.3.3　荷电补偿
　2.4　AES的电子枪
　2.4.1 电子源
　 2.4.2　俄歇电子能谱中电子发射体的比较
　2.5　电子能谱分析器
　2.5.1　筒镜形分析器
　 2.5.2　半球形分析器
　2.6　探测器
　2.6 1　通道电子倍增器
　 2.6 2　通道板
　2.7　小面积XPS
　2.7.1　透镜限定小面积XPS
　 2.7.2　源限定小面积XPS
　2.8　XPS成像和面分布成像
　2.8.1　串行采集
　 2.8.2　平行采集
　2.9　小面积XPS的横向分辨率
　2.10　角分辨XPS
3　电子能谱：定性和定量诠释
　3.1　定性分析
　 3.1.1　电子能谱中的干扰特征峰
　3.1.2　数据采集
　3.2　化学态信息
　3.2.1　X射线光电子能谱
　 3.2.2　电子诱导激发俄歇电子能谱
　3.2.3　俄歇参数
　 3.2.4　化学态图
　3.2.5　震激伴峰
　 3.2.6　多重劈裂
　3.2.7　等离激元
　3.3　定量分析
　 3.3.1　影响电子能谱定量分析的因素
　3 3.2　XPS定量分析
　 3.3 3　AES定量分析
4　组分深度剖析
　4.1　非破坏性深度剖析方法
　 4.1.1　角分辨电子能谱
　4.1.2　分析深度随电子动能的变化
　4.2　惰性气体离子刻蚀深度剖析
　4.2.1　溅射过程
　 4.2.2　实验方法
　　……
5　电子能谱在材料科学中的应用
6　XPS，AES与其他分析技术的比较
名词术语
附录
索引