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微小世界里的新天地:神奇的薄膜

微小世界里的新天地:神奇的薄膜

定 价:¥32.00

作 者: 麻莳立男,譚毅,史蹟 译
出版社: 科学出版社
丛编项:
标 签: 固体物理学

ISBN: 9787030319357 出版时间: 2011-08-01 包装: 平装
开本: 32开 页数: 175 字数:  

内容简介

  在我们生活的世界中,各种各样形形色色的事物和现象,其中都必定包含着“科学”的成分。在这些成分中,有些是你所熟知的,有些是你未知的,有些是你还一知半解的。面对未知的世界,好奇的你是不是有很多疑惑、不解和期待呢?“形形色色的科学”趣味科普丛书,把我们身边方方面面的科学知识活灵活现、生动有趣地展示给你,让你在畅快阅读中收获这些鲜活的科学知识!我们最新式的笔记本电脑和手机在变得越来越小的同时,性能却得到了几倍几十倍的提升。正是因为薄膜这种尖端的纳米技术,我们的生活中才有了大屏幕超薄液晶电视、超大容量存储媒介、越来越轻巧功能却越来越强大的各种电子产品。就让《微小世界里的新天地:神奇的薄膜》为你生动地讲解一下这项支撑现代高科技社会的基础技术吧。《微小世界里的新天地:神奇的薄膜》适合青少年读者、科学爱好者以及大众读者阅读。

作者简介

  麻莳立男,1934年生于日本爱知县,1957年静冈大学工学部电子工学专业毕业,同年加入日本电气株式会社,1967年被调任至日电Valian(现佳能ANELVA株式会社),1990年至2010年任东京理科大学教授和返聘教授、日本真空协会个人理事、工学博士。主要著作有《话说真空》、《薄膜制作基础》、《超微细加工基础》、《简明电磁学》、《超微细加工人门》、《简明薄膜读本》(日刊工业出版社)等。谭毅,1993年3月获东京工业大学金属工学博士学位;1997年10月在日本超高温材料研究所任新能源产业技术综合开发机构研究员;2001年5月任美国加州大学洛杉矶分校材料科学与工程系研究员;2009年9月受聘于大连理工大学,任材料学院教授、能源研究院副院长至今。现从事冶金法提纯多晶硅材料、薄膜材料、高温材料等新能源材料的研究。史蹟,1984年毕业于大连理工大学金属材料专业;1993年赴日本留学;1997年获东京工业大学金属工学博士学位,后任日本国立电气通信大学量子物质工学助教;2004年任东京工业大学材料工学副教授至今。现从事金属物理、功能材料、结构分析等材料科学的研究。

图书目录

第1章幸福生活从美丽与微观开始
 001展现缤纷色彩的颜料用微小粉末描绘美丽世界002
 002复制美丽——相片彩色相片与数码相机004
 003薄膜技术使机器人不断进化利用薄膜材料与计算机
 进行精密制备006
 004创造五种感官视觉、听觉、嗅觉、味觉与触觉的创造008
 005制造人工智能010
 006我们身边的电子产品都在使用薄膜012
 007利用不分解的压延技术,可以薄到什么程度014
 008制造薄膜与制作精细图案016
 COLUMN真空的含义018
第2章制备薄膜的重要环境条件——真空
 009真空——压强低于大气压的空间状态020
 010真空的单位与压强的单位:帕斯卡(Pa)022
 011抽出和吸附——真空泵的分类024
 012真空的分析和测量真空计026
 013真空装置的制造方法028
 COLUMN质量瞬移030
第3章薄膜的制备
 014薄膜的形成——先气化,再固化沉积032
 015四种气化源034
 016单层生长与形核长大薄膜的生长①036
 017薄膜内部缺陷薄膜的生长②038
 018仅有薄膜还不够薄膜与基板的结合040
 019目标:单晶薄膜042
 COLUMN出身和教育同样重要044viv
第4章薄膜特有的性质
 020薄膜的密度和厚度会随时间减小046
 021薄膜电阻的变化比体材料大048
 022热稳定性降低通过时效处理加以克服05
 COLUMN薄膜和基板的连接052
第5章增强基板与薄膜结合的技术
 023制膜的基础:平整的基板054
 024前期处理:使基板表面完全裸露056
 025前期处理的最后工序:干燥058
 026制备附着强度更强的薄膜060
 027改变气化源、增加附着强度062
 028薄膜与基板的相合性更为重要064
 029着陆点:险峻的山地066
 030得到希望的薄膜组成068
 031制造用于大面积集成电路的非晶薄膜070
 032电迁移断线及其解决方法072
 COLUMN太阳之子——等离子体074
第6章等离子体在薄膜制备中的重要性
 033等离子体的神奇之处及其应用076
 034通过放电获得等离子体078
 035低气压(良好真空)下的磁控放电080
 036产生薄膜用等离子体的五种方法082
 037薄膜制备的难题——尘埃084
 COLUMN望远镜和照相机视场变亮的奥秘086
第7章从古代沿用至今的蒸镀法
 038蒸发源088
 039加工等厚膜的方法090
 040离子镀的使用092
 041进一步发挥离子的作用094
 042防止蒸镀材料与薄膜间的成分变化激光沉积法096
 043制作透明导电的薄膜透明导电薄膜的蒸镀方法098
 COLUMN活学活用100
第8章大面积气化源、适于批量生产的溅射法
 044溅射率是由离子能量和薄膜材料的种类决定的102
 045溅射产生的原子遵循余弦法则且速度非常快104
 046溅射的主要方式106
 047以低电压、定压(高真空)为目标的磁控溅射108
 048支撑半导体IC高集成度发展的铝合金溅射110
 049利用反应溅射制作高性能电阻膜112
 050用溅射法制作氧化物高温超导膜114
 051低电压下制造透明导电膜(氧化物)ITO116
 052薄膜加工的过渡——从平面成膜到微孔成膜118
 053利用离子进行超微细孔的填埋120
 054向高真空、无氩气溅射的过渡122
 COLUMN神奇的过程——从气体到薄膜124
第9章由气体制作薄膜的气相沉积法
 055气体向固体的转变:薄膜的气相沉积126
 056很多的CVD方法已被实用化128
 057CVD法制备IC中至关重要的硅系薄膜130
 058高清彩色电视用的硅薄膜132
 059高诱电率薄膜和低诱电率薄膜的制作134
 060用气相沉积法制备金属导体薄膜136
 061表面改性法制备氧化薄膜、氮化薄膜138
 COLUMN从水(液体)中提取薄膜(固体)140
第10章在液体中制作镀膜
 062镀膜技术的发展142
 063液相镀膜和真空薄膜中的核生长144
 064精密镀膜在电气领域的应用146
 COLUMN用世界上最小的刀进行切削加工148vii
第11章将薄膜加工成电路、晶体管等的蚀刻技术
 065蚀刻法制备图样:在正确的位置加工正确的形状150
 066用气体离子进行蚀刻152
 067最关键的一步——等离子体的制备154
 068反应气体是重要的156
 069决定蚀刻的条件158
 070利用极细离子束进行故障修理160
 071利用CMP进行平坦化处理162
 072无CMP的平坦化技术164
 COLUMN向伟大的梦想前进!166
第12章薄膜发展的无限可能性
 073操控原子,制造未来仪器168
 074薄膜——带动世界通信网络发展170
 075用微动同步器挽救生命172
 076生物计算机的使用174参考文献177

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