薄膜技术与薄膜材料

第1章　真空技术基础
　1.1真空的基本知识
　1.2真空的表征
　1.3气体分子与表面的相互作用
　习题
第2章　真空泵与真空规
　2.1真空泵
　2.2真空测量仪器——总压强计
　2.3真空测量仪器——分压强计
　习题
第3章　真空装置的实际问题
　3.1排气的基础知识
　3.2材料的放气
　3.3排气时间的估算
　3.4实用的排气系统
　3.5检漏
　3.6大气温度与湿度对装置的影响
　3.7烘烤用的内部加热器
　3.8化学活性气体的排气
　习题
第4章　气体放电和低温等离子体
　4.1带电粒子在电磁场中的运动
　4.2气体原子的电离和激发
　4.3气体放电发展过程
　4.4低温等离子体概述
　4.5辉光放电
　4.6弧光放电
　4.7高频放电
　4.8低压力、高密度等离子体放电
　习题
第5章　薄膜生长与薄膜结构
　5.1薄膜生长概述
　5.2吸附、表面扩散与凝结
　5.3薄膜的形核与生长
　5.4连续薄膜的形成
　5.5薄膜的生长过程与薄膜结构
　5.6非晶态薄膜
　5.7薄膜的基本性质
　5.8薄膜的粘附力和内应力
　5.9电迁移
　习题
第6章　真空蒸镀
　6.1概述
　6.2镀料的蒸发
　6.3蒸发源
　6.4蒸发源的蒸气发射特性与基板配置
　6.5蒸镀装置及操作
　6.7化合物膜的蒸镀
　6.8脉冲激光熔射(pla)
　6.9分子束外延技术
　习题
第7章　离子镀和离子束沉积
　7.1离子镀原理及方式
　7.2几种典型的离子镀方式
　7.3离子束沉积
　7.4离子束混合
　习题
第8章　溅射镀膜
　8.1离子溅射
　8.2溅射镀膜方式
　8.3溅射镀膜的实例
　习题
第9章　化学气相沉积(cvd)
　9.1化学气相沉积(cvd)概述
　9.2热cvd
　9.3等离子体cvd(pcvd)
　9.4光cvd(photocvd)
　9.5有机金属cvd(mocvd)
　9.6金属cvd
　9.7半球形晶粒多晶si-cvd(hsg-cvd)
　9.8铁电体的cvd
　9.9低介电常数薄膜的cvd
　习题
第10章　干法刻蚀
　10.1干法刻蚀与湿法刻蚀
　10.2等离子体刻蚀——激发反应气体刻蚀
　10.3反应离子刻蚀(rie)
　10.4反应离子束刻蚀(ribe)
　10.5气体离化团束(gcib)加工技术
　10.6微机械加工
　10.7干法刻蚀用离子源的开发
　习题
第11章　平坦化技术
　11.1平坦化技术的必要性
　11.2干坦化技术概要
　11.3不发生凹凸的薄膜生长
　11.4沉积同时进行加工防止凹凸发生的薄膜生长
　11.5薄膜生长后经再加工实现平坦化
　11.6埋人技术实例
　11.7化学机械研磨(cmp)技术
　11.8气体离化团束(gcib)加工平坦化
　11.9大马士革法(damascene)布线及平坦化
　11.10平坦化技术与光刻制版术
　11.111c多层布线已进展到第四代
　习题
第12章　表面改性及超硬膜
　12.1表面改性
　12.2超硬膜用于切削刀具
　习题
第13章　能量及信号变换用薄膜与器件
　13.1能量变换薄膜与器件
　13.2传感器
　13.3金刚石薄膜的应用
　习题
第14章　半导体器件、记录和存储用薄膜技术与薄膜材料
　14.1半导体器件
　14.2记录与存储
　习题
第15章　平板显示器中的薄膜技术与薄膜材料
　15.1平板显示器
　15.2液晶显示器
　15.3等离子体平板显示器
　15.4有机电致发光显示器(oled)
　习题
第16章　太阳电池中的薄膜技术与薄膜材料
　16.1太阳电池的原理和薄膜太阳电池的优势
　16.2太阳电池和光伏发电的最新进展
　16.3硅系薄膜太阳电池
　16.4cdte太阳电池
　16.5cigs太阳电池
　16.6超高效率多串结ⅲ—v族化合物半导体太阳电池
　16.7有机薄膜型太阳电池
　16.8色素增感(染料敏化)太阳电池
　习题
第17章　白光led固体照明与薄膜技术
　17.1半导体固体发光器件的基础——发光过程
　17.2发光二极管和蓝光led
　17.3白光led固体照明器件
　17.4激光二极管
　习题
参考文献
作者书系