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美国软件专利保护法律制度研究

美国软件专利保护法律制度研究

定 价:¥28.00

作 者: 唐昭红 著
出版社: 法律出版社
丛编项:
标 签: 美洲

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ISBN: 9787511830326 出版时间: 2012-01-01 包装: 平装
开本: 大32开 页数: 301 字数:  

内容简介

  本书为“南湖法学文库”之一,全书着眼于美国软件专利保护法律制度,系统而全面地对美国专利法律制度的相关问题进行了探究。

作者简介

  唐昭红 法学博士,副教授。1984~1988年,于中南政法学院学习并获法学学士学位,1992~1995年,于中南政法学院学习并获法学硕士学位,2002~2007年,于中南财经政法大学法学院学习并获法学博士学位2003年8月~2004年1月,北京大学法学院微软项目访问学者,2004年2月~2004年5月,塞尔维亚诺维萨德大学法学院访问学者,2007年8月~2008年8月,美国密西根州立大学法学院访问学者。1988年至今于中南财经政法大学任教,教学及研究范围涉及知识产权法学、民商法学等,近年来主要研究美国知识产权法。主要成果有《商业秘密研究》《论人格权请求权与知识产权请求权的确立》、《论壁画应有的法律地位》、《解读专利制度的缘起》等。

图书目录

导言
第一章 美国的经济与法律
 第一节 美国经济
 第二节 美国法律
第二章 美国专利法律制度
  第一节 引言
  第二节 美国专利法律制度的历史沿革
  第三节 美国现行专利法律制度
  第四节 美国专利法律制度之正当性
第三章 美国软件专利法律制度(上)
  第一节 引言
  第二节 软件的法律保护
  第三节 软件专利保护——可专利主题障碍(1972~1980年)
  第四节 软件专利保护——可专利主题障碍(1981~1994年)
  第五节 软件专利保护——逾越可专利主题障碍(1994~1998年)
 ……
第四章 美国软件专利法律制度(下)
第五章 美国软件专利法律制度的自省与重构
主要参考文献
后记

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