本书主要论述用于非半导体材料表面改性的PlIl、PIIID技术相关物理与技术问题，关键部件及处理工艺问题。本书的主要内容包括PIIID技术发展概况，基础理论，PIIID设备关键部件设计，PIIID鞘层动力学计算机数值模拟与应用以及机械零件的PIIID复合、批量处理工艺与应用等。为了清楚PlIl与PIIID概念之间的区别，书中提到的PlIl一般是指采用气体等离子体的PlIl技术，在PlIl过程中，离子注入是材料表面改性的主要因素；书中提到的PIIID一般是指采用金属等离子体与气体等离子体相结合的PIIID技术，在PIIID过程中，离子注入与薄膜沉积相结合的处理是材料表面改性的主要因素。本书称PIIID为等离子体浸泡式离子注入与沉积技术是因为考虑到PIIID处理过程的特点是：被处理零件完全浸泡在等离子体中，处理过程常采用离子注入与薄膜沉积相结合的工艺。 本书特别列出了近十几年来等离子体浸泡式离子注入与沉积（PIIID）技术在下列七个方面取得的重大进展：（1）脉冲宽度可调、大面积、强流阴极弧金属等离子体源；（2）高电压下慢速自转与公转的油冷靶台与组合夹具；（3）Pill过程鞘层动力学计算机理论数值模拟技术；（4）减少、抑制二次电子发射；（5）大功率固态电路脉冲调制器技术；（6）PIIID内表面处理技术；（7）PIIID复合、批量处理技术。由此可见，在短短十几年时间里，PIIID技术在基本理论、关键部件的研制、处理工艺、应用领域扩展等方面都有了非常迅速的发展；PIIID技术正在以中、小规模，复合、批量处理方式成功地用于航空航天、高速列车、汽车等多种领域。这表明：PIIID技术是一种不可缺少、不可替代的先进的表面工程技术，它具有非常美好的商业应用前景。
鄂公网安备 42010302001612号 