低温尘埃等离子体

定　价：¥22.00

作　者：	刘相梅著
出版社：	哈尔滨工程大学出版社
丛编项：
标　签：	暂缺

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ISBN：	9787566111920	出版时间：	2016-01-01	包装：	平装
开本：	16开	页数：	116	字数：

内容简介

　　近年来，伴随着材料表面处理等离子体工艺的发展，尘埃颗粒因其对等离子体性质及材料表面性质有着重要的影响，得到了广泛的关注，《低温尘埃等离子体》就是在此背景下著成的。《低温尘埃等离子体》分为三大部分：第一部分是尘埃等离子体的基础知识，包括第1章和第2章；第二部分是硅烷放电中尘埃颗粒形成机制的研究，包括第3章、第4章和第5章；第三部分是乙炔放电中尘埃颗粒形成机制的研究，包括第6章和第7章。《低温尘埃等离子体》可为等离子体物理相关领域研究者提供借鉴和参考。

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暂缺《低温尘埃等离子体》作者简介

图书目录

第1章尘埃等离子体概述
1．1 尘埃等离子体简介
1．2 低温尘埃等离子体应用
1．3 低温尘埃等离子体的研究方法及现状
1．4 本章小结
第2章低温尘埃等离子体物理基础
2．1 尘埃颗粒的形成和生长
2．2 尘埃颗粒的充电
2．3 尘埃颗粒的受力
2．4 本章小结
第3章硅薄膜中尘埃颗粒成核阶段
3．1 概述
3．2 模型描述
3．3 模拟结果与讨论
3．4 本章小结
第4章硅薄膜中尘埃颗粒凝聚阶段
4．1 概述
4．2 凝聚过程模拟
4．3 结果与讨论
4．4 本章小结
第5章甚高频放电中尘埃颗粒生长阶段的二维模拟
5．1 概述
5．2 二维模型描述
5．3 模拟结果与讨论
5．4 本章小结
第6章碳薄膜中尘埃颗粒形成机制研究
6．1 概述
6．2 模型描述
6．3 模拟结果与讨论
6．4 本章小结
第7章脉冲调制射频放电中尘埃颗粒生长机制研究．
7．1 概述
7．2 模型描述
7．3 结果与讨论
7．4 本章小结
第8章结论
参考文献