脉冲激光沉积技术是一种研究和开发新型高性能材料的有效途径，在制备新型碳材料——类金刚石膜方面，以其独有的特点，逐渐显现出填补传统技术空白的优势。但是，脉冲激光沉积技术制备的类金刚石膜也存在一些固有的缺陷，如内应力大、大面积不均匀等问题。如何采用脉冲激光沉积技术制备出具有工程应用价值的类金刚石膜，一直是国内外相关领域研究者的目标。程勇等编著的《脉冲激光沉积类金刚石膜技术》共7章内容。从介绍类金刚石膜性质、组成、制备及应用入手，阐述脉冲激光沉积技术及其在制备类金刚石膜方面的机理和优点、缺点，以及类金刚石膜的测试与表征；详细讨论激光参数、基底状态、靶材种类以及环境气氛等因素对类金刚石膜性能的影响，偏重于阐述掺杂、退火、膜层结构及双激光技术等类金刚石膜降低内应力、提高膜层各种性能的改性技术；针对类金刚石膜的工程应用中存在的大面积不均匀、制备效率低的现实问题，展现多功能激光沉积系统，阐述脉冲激光沉积大尺寸均匀平面和球面类金刚石膜的装置、模型及实验；最后介绍脉冲激光沉积技术在制备其他功能薄膜方面的应用，展望该技术未来发展趋势和前景。《脉冲激光沉积类金刚石膜技术》可供从事激光沉积技术和类金刚石膜相关的研究和应用人员阅读和参考，也可供高等院校光学、激光、材料、机械和电子等相关专业的学生参考。
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