第1篇关于米哈伊尔·费奥多罗维奇·
茹科夫的回忆
第1章人物、年代、结论
[М·Ф·茹科夫(М.Ф.Жуков]9
第2章对老师和朋友的回忆
——对崇高的米哈伊尔·费奥多罗维奇·茹科夫的回忆
[В·М·福明(В.М.Фомин),
Б·А·乌留科夫(Б.А.Урюков),
Г·А·久热夫(Г.А.Дюжев),
А·С·安沙科夫(А.С.Аньшаков),
Э·К·乌尔巴赫(Э.К.Урбах),
В·П·萨布罗夫(В.П.Сабуров),
Б·С·叶列波夫(Б.С.Елепов),
И·М·扎瑟普金(И.М.Засыпкин),
А·Н·季莫舍夫斯基(А.Н.Тимошевский)]20
第2篇低温等离子体发生器
第3章等离子体发生器中湍流理论的若干问题
[Б·А·乌留科夫(Б.А.Урюков)]41
3.1用电弧使湍流层流化41
3.2电弧长度自调节的等离子体发生器理论45
第4章电弧等离子体发生器中阴极表面自恢复的数学模拟
[А·Д·雷奇科夫(А.Д.Рычков),
Х·米洛舍维奇(Х.Милошевич),
А·Н·季莫舍夫斯基(А.Н.Тимошевский),
В·В·萨洛马托夫(В.В.Саломатов)]51
引言51
4.1数学模型52
4.2计算结果56
结论61
第5章阳极部件的电弧等离子体特性的数值分析
[Э·Б·库伦巴耶夫(Э.Б.Кулумбаев),
В·М·列列夫金(В.М.Лелевкин)]62
引言62
5.1模型63
5.2计算方法66
5.3阳极部件的等离子体特性计算74
结论83
第6章电弧放电时阴极上的电流与热交换
[Х·Ц·扎亚图耶夫(Х.Ц.Заятуев)]84
引言84
6.1在“异常”发射工况下热发射阴极工作的基本
实验规律86
6.2从金属到等离子体的电子发射,平衡的发射电流
密度与电子逸出功91
6.3阴极上的合成电流密度93
6.4热发射阴极上的能量平衡,近阴极电位降97
结论100
第7章电弧水蒸气等离子体的产生
[Б·И·米哈伊洛夫(Б.И.Михайлов)]102
7.1水蒸气等离子体性能的异常特性102
7.2电弧水蒸气等离子体发生器原理图的分析105
7.3蒸汽涡流等离子体炬工作的特点109
7.4水蒸气涡流等离子体炬稳定工作的条件111
7.5水蒸气涡流等离子体炬的广义能量特性121
7.6水蒸气等离子体的实际应用131
结论141
第8章各种方案的四氟甲烷等离子体炬的热特性与动力特性
[А·Н·季莫舍夫斯基(А.Н.Тимошевский),
В·С·蓬克拉托夫(В.С.Понкратов)]143
8.1直线型等离子体炬的研究143
8.2V型等离子体炬的研究147
第9章高频放电等离子体物理研究及其实际应用
[И·А·季霍米罗夫(И.А.Тихомиров),
В·А·弗拉索夫(В.А.Власов)]150
9.1高频-放电等离子体物理150
9.2高频-放电等离子体和等离子体中所发生
过程的诊断158
9.3高频放电在实际中的应用162
第10章高频氩-硅烷等离子体的化学成分模拟
[В·И·斯特鲁宁(В.И.Струнин),
А·А·利亚霍夫(А.А.Ляхов),
Г·Ж·胡代别尔格诺夫(Г.Ж.Худайбергенов),
В·И·什库尔金(В.И.Шкуркин)]165
结论170
第11章超声速气流辉光放电等离子体发生器
[И·Г·加列耶夫(И.Г.Галеев),
Г·Ю·道托夫(Г.Ю.Даутов),
З·Х·伊斯拉菲洛夫(З.Х.Исрафилов),
Б·А·季梅尔卡耶夫(Б.А.Тимеркаев)]171
第3篇等离子体工艺过程
第12章富勒烯和低温等离子体
[Г·А·久热夫(Г.А.Дюжев)]189
12.1富勒烯是什么?简短的历史189
12.2为什么富勒烯会引起如此巨大的兴趣?191
12.3怎样获得富勒烯?193
12.4在电弧放电中形成富勒烯197
12.5实验研究结果200
12.6什么是含富勒烯的碳黑?207
12.7富勒烯生成过程的理论研究213
第13章等离子体炬在超声速气流控制研究中的应用
[В·М·福明(В.М.Фомин),
А·А·马斯洛夫(А.А.Маслов),
В·П·福米切夫(В.П.Фомичев),
Б·А·波兹尼亚科夫(Б.А.Поздняков),
Г·А·波兹尼亚科夫(Г.А.Поздняков),
Б·В·波斯特尼科夫(Б.В.Постников)]216
13.1模型217
13.2等离子体发生器220
13.3实验结果222
13.4模型的超高声速绕流225
13.5实验方法231
13.6实验结果233
13.7测量结果比较237
13.8实验结果与数值结果的比较239
第14章等离子体涂层喷涂的成就
[В·С·克卢布尼金(В.С.Клубникин)]244
14.1传统的等离子体喷涂245
14.2空气等离子体喷涂245
14.3内部等离子体喷涂247
14.4超声速等离子体喷涂248
14.5多弧等离子体喷涂250
结论250
第15章等离子体喷涂时熔融物液滴与基底互撞的热物理,
理论与模型试验
[О·П·索洛年科(О.П.Солоненко),
А·В·斯米尔诺夫(А.В.Смирнов),
А·А·米哈利琴科(А.А.Михальченко),
Е·В·卡尔塔耶夫(Е.В.Картаев)]251
引言251
15.1物理模型装置254
15.2金属氧化物“滴液”形成的理论基础259
15.3部分稳定的二氧化锆(YSZ)“液滴”在金属
基底上的形成264
结论275
第16章氮化硼合成与应用领域的新高潮
[В·А·涅罗诺夫(В.А.Неронов),
В·А·叶梅利金(В.А.Емелькин)]276
16.1氮化硼的一般资料及立方体氮化硼在低压下的