第 1 章 简介和术语 / 1 1.1 研读本书的前提条件 / 4 1.2 本书的组织结构 / 4 1.3 杂散光术语 / 6 1.4 小结 / 10 参考文献 / 10 第 2 章 杂散光分析中的基本辐射度学 / 12 2.1 辐射度学术语 / 13 2.2 辐射传输 / 28 2.3 探测器响应度 / 35 2.4 小结 / 36 参考文献 / 37 第 3 章 杂散光分析中的基本光线追迹 / 40 3.1 建立杂散光模型 / 40 3.2 光线追迹 / 43 3.3 小结 / 58 参考文献 / 59 第 4 章 光学表面粗糙度和涂层引起的散射 / 60 4.1 未镀膜的光学表面粗糙度引起的散射 / 61 4.2 镀膜光学表面粗糙度引起的散射 / 72 4.3 划痕和凹痕引起的散射 / 74 4.4 小结 / 75 参考文献 / 75 第 5 章 微粒污染物引起的散射 / 77 5.1 球形微粒的散射(米氏散射理论) / 79 5.2 微粒密度函数模型 / 81 5.3 BSDF 模型 / 90 5.4 污染物散射与表面粗糙度散射的比较 / 95 5.5 体材料内杂质引起的散射 / 95 5.6 分子污染物 / 98 5.7 小结 / 98 参考文献 / 99 第 6 章 黑化表面处理引起的散射 / 102 6.1 黑化表面处理的光散射的物理过程 / 103 6.2 黑化表面处理的选择标准 / 114 6.3 黑化表面处理的类型 / 116 6.4 常用的黑化表面处理的概论 / 121 6.5 小结 / 122 参考文献 / 123 第 7 章 鬼反射、孔径衍射和衍射光学元件的衍射 / 125 7.1 鬼反射 / 125 7.2 孔径衍射 / 134 7.3 衍射光学元件的衍射 / 140 7.4 小结 / 144 参考文献 / 145 第 8 章 针对杂散光抑制的光学设计 / 147 8.1 使用视场光阑 / 147 8.2 无遮拦光学设计 / 149 8.3 大限度地减少孔径光阑与焦平面之间的光学元件数目 / 151 8.4 里奥光阑使用方法 / 152 8.5 使用光瞳掩模来遮挡支柱和其他遮挡物的衍射和散射 / 155 8.6 大限度地减少孔径光阑的光照强度 / 156 8.7 大限度地减少光学元件的数量,尤其是折射元件的数量 / 156 8.8 避免将光学元件放置在中间像面上 / 157 8.9 避免将鬼像聚焦在焦平面上 / 157 8.10 降低渐晕(包括支柱的投影立体角) / 158 8.11 使用时间、频谱或偏振滤波器 / 159 8.12 在红外系统中使用非均匀补偿和反射式暖屏 / 160 8.13 小结 / 163 参考文献 / 164 第 9 章 挡板和冷屏设计 / 165 9.1 主挡板和冷屏的设计 / 166 9.2 主挡板和冷屏的叶片设计 / 170 9.3 Cassegrain 型系统的挡板设计 / 176 9.4 反射挡板叶片的设计 / 181 9.5 掩模的设计 / 183 9.6 小结 / 184 参考文献 / 185 第 10 章 BSDF 、 TIS 和系统杂散光的测量 / 186 10.1 BSDF 的测量(散射计) / 186 10.2 TIS 的测量 / 189 10.3 系统杂散光的测量 / 190 10.4 内部杂散光测试 / 196 10.5 小结 / 196 参考文献 / 196 第 11 章 杂散光工程过程 / 198 11.1 定义杂散光要求 / 200 11.2 光学系统设计与表面粗糙度、污染等级和涂层的选取 / 202 11.3 构建杂散光模型,设置挡板和表面处理状态 / 203 11.4 计算杂散光性能 / 203 11.5 构建和测试 / 204 11.6 流程结束 / 205 11.7 小结 / 206 11.8 经验和指南 / 207 参考文献 / 208