绝缘体上硅（SOI）技术：制造及应用

定　价：¥128.00

作　者：	奥列格.库侬楚克，阮碧艳
出版社：	国防工业出版社
丛编项：
标　签：	暂缺

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ISBN：	9787118116366	出版时间：	2018-09-01	包装：
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内容简介

　　《绝缘体上硅（SOI）技术：制造及应用》的目的是对SOI CMOS新技术的进展进行全面介绍。全书分为两部分：*部分介绍SOI晶圆片的制造工艺、表征及SOI器件物理；第二部分介绍相关的各种应用。全书既涉及部分耗尽SOI这样已成熟的技术，也包括全耗尽平面SOI技术、FinFET、射频、光电子、MEMS以及超低功耗应用这样一些新发展的技术。晶体管级和电路级解决方案也均有涉及。我们将这《绝缘体上硅（SOI）技术：制造及应用》的解决方案限定在32~14nm技术节点的范围，并将应用限定在技术成熟到足以实现批量生产的范围。