磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能

前言
第1章 绪论
1．1 薄膜简介
1．2 薄膜的性质
1．3 薄膜制备技术
1．4 薄膜的表征技术

第2章 氮化铜薄膜研究现状
2．1 Cu3N薄膜的制备技术
2．2 Cu3N薄膜的晶体结构
2．3 电学和光学性能
2．4 热、力学性能和耐腐蚀性
2．5 Cu3N薄膜的应用

第3章 氮化铜薄膜的制备
3．1 磁控溅射技术
3．2 JGP-450a型多功能磁控溅射系统
3．3 氮化铜薄膜的制备

第4章 氮化铜薄膜的结构研究
4．1 薄膜的结构分析
4．2 薄膜的表面形貌
4．3 薄膜的组分
4．4 薄膜的晶格常数

第5章 氮化铜的性能研究
5．1 薄膜的电学性能
5．2 薄膜的光学性能
5．3 薄膜的热稳定性研究

第6章 氮化铜的第一性原理研究
6．1 概述
6．2 计算方法及过程
6．3 氮化铜的电子结构计算结果
结论与展望
参考文献
附录