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光电显示原理及应用

光电显示原理及应用

定 价:¥55.00

作 者: 应根裕 著
出版社: 清华大学出版社
丛编项: 高等学校电子信息类专业系列教材
标 签: 暂缺

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ISBN: 9787302535058 出版时间: 2020-05-01 包装: 平装
开本: 16开 页数: 320 字数:  

内容简介

  本书对光电显示领域的主要显示器件的原理、结构、制造工艺以及驱动技术作了全面的介绍。鉴于液晶显示技术在光电显示领域中的绝对统治地位,本书用了约40%的篇幅深入论述了液晶显示器(LCD)的材料、工艺和驱动技术。全书共13章,第1章是光电显示的视觉基础,对所有光电显示器件都是适用的。第2章阴极射线管(CRT)显示是光电显示的先驱和参照物。第3~6章详细介绍了液晶材料的理化特性、无源矩阵LCD的工作原理和驱动技术、薄膜晶体管的物理过程以及有源矩阵LCD的工作原理和驱动技术。 第7章简要介绍了等离子体显示。第8章简要介绍了场致发射显示。第9章有机电致发光显示(OLED)是光电显示领域中正在升起的新星,其工作原理的物理过程比较难懂,书中作了细致的讲解。第10章介绍了发光二极管(LED)显示。第11章简要介绍了电致发光(EL)显示。第12章介绍了大屏幕投影显示的原理与技术。第13章介绍的触摸屏已是光电显示器不可分割的一部分,所以书中对各种触摸屏的工作原理和工艺结构作了全面的介绍。 本书介绍了各种光电显示器的工作原理和驱动技术,对物理学和电子学的专业基础要求较高,所以比较适合用作高等院校有关专业的本科生和研究生的教材,也可作为从事光电显示领域科研工作人员的参考书。

作者简介

  应根裕,清华大学电子工程系资深教授,从事光电显示的教育和科研40余年。先后发表过论文60余篇,主持过各类科研项目20项。主编或参编各类教材、著作10余本,如《光电导物理及其应用》(1990)、《信息显示与图像摄取原理》(1994)、《平板显示技术》(2002年)、《平板显示应用技术》(2007年)、《显示光学》(2010年光学手册第21章 )等。曾任维信诺公司高级顾问,参与OLED器件的一项国际标准和两项国内标准的制订。

图书目录

第1章光电显示基础

1.1显示和光电显示器

1.2电视的传像原理

1.3表征图像质量的主要指标

1.4显示屏色调特性对图像质量的影响

1.5与显示器相关的视觉特性

1.5.1视觉生理

1.5.2与显示技术有关的视觉特性

1.6光度学与色度学简介

1.6.1光度学

1.6.2颜色的分类与颜色的三种属性

1.6.3色度学中的几个基本概念

1.6.4CIE表色体系

习题与思考

第2章阴极射线管显示

2.1CRT的基本原理

2.2彩色CRT

2.3CRT电视的传像原理

习题与思考

第3章液晶的性质

3.1液晶显示的特点

3.2液晶的分类

3.2.1液晶的形成原因

3.2.2液晶分子的形状和分子结构

3.2.3液晶的相

3.3液晶的物理特性

3.3.1液晶分子的序

3.3.2弹性系数

3.3.3黏度

3.3.4折射率

3.3.5介电常数

3.3.6离子输运

3.3.7光学性质和双折射

3.3.8阈值电压

3.3.9小结

3.4表面定向性能

3.4.1沿面排列

3.4.2垂直排列

3.4.3液晶盒定向的种类

习题与思考







第4章常用的无源液晶显示器

4.1扭曲向列型液晶显示器(TNLCD)

4.1.1结构和工作原理

4.1.2畴

4.1.3关(OFF)态的光学特性

4.1.4开(ON)态的光学特性

4.1.5TN液晶显示器的技术参数

4.2超扭曲向列型液晶显示器(STNLCD)

4.2.1工作原理

4.2.2光学特性

4.2.3STN系器件的优缺点

4.3无源液晶显示器的制造工艺

4.3.1TNLCD的制造工艺流程

4.3.2图形蚀刻

4.3.3定向排列

4.3.4空盒制作

4.3.5灌注液晶和封口

4.3.6LCD制造工艺过程示意

4.4无源液晶显示器的寻址技术

4.4.1七弧段显示和直接寻址

4.4.2无源矩阵LCD的寻址

4.4.3无源矩阵寻址的极限

4.4.4交叉效应

4.4.5显示灰度

4.5无源矩阵显示器的包装和装配技术

习题与思考

第5章薄膜晶体管物理、性能及其制造工艺

5.1薄膜晶体管的工作原理和结构

5.1.1半导体表面物理

5.1.2绝缘栅场效应晶体管

5.2氢化非晶态硅TFT的结构和工艺

5.2.1aSi:H材料

5.2.2aSi:H TFT的结构

5.3多晶硅TFT

5.3.1简介

5.3.2多晶硅的制备

5.3.3栅极介质

5.3.4多晶硅TFT的结构和制作过程

5.3.5多晶硅TFT的应用

5.4非晶态氧化物半导体TFT

5.4.1AOS的材料性质

5.4.2AOS TFT的结构与制造

5.4.3aIGZO TFT的性能

习题与思考

第6章有源矩阵液晶显示器

6.1简介

6.1.1AMLCD的面板结构

6.1.2一般考虑

6.1.3影响TFTLCD显示特性的因素

6.1.4减少交叉效应和极性反转技术

6.2AMLCD的驱动器

6.3液晶显示器性能的改进

6.3.1LCD的宽视角技术

6.3.2缩短响应时间

6.3.3抑制运动伪像

6.4液晶显示器使用的原材料与辅助材料

6.4.1基板玻璃

6.4.2透明导电玻璃

6.4.3偏振片

6.4.4彩色滤色膜

6.4.5背光模块

6.4.6辅助材料

习题与思考

第7章等离子体显示

7.1基本结构

7.2ACPDP的工作原理

7.3气体放电特性

7.4PDP的制造过程

7.5总装和老练工艺

7.6PDP显示屏灰度的实现

7.7PDP显示动态图像的伪轮廓现象

7.8PDP显示器的优缺点

习题与思考

第8章场致发射显示

8.1电子场致发射

8.1.1场致发射显示原理

8.1.2电子场致发射理论

8.2Spindt型场致发射体阵列

8.3Spindt型发射体的性能

8.4发射均匀性和稳定性问题

8.5在FEA中引入聚焦极

8.6FED面板的制造

8.7维持真空和封装问题

8.8纳米Spindt型FED

8.9新材料和新技术

8.10基于碳纳米管阴极的FED

8.11表面传导电子发射显示器

8.12结束语

习题与思考

第9章有机电致发光显示

9.1简介

9.2OLED器件结构

9.2.1单有机层结构

9.2.2双有机层结构

9.2.3pin结构

9.2.4顶发射和透明OLED

9.2.5全彩色OLED

9.3OLED的主要物理过程

9.3.1OLED的载流子注入

9.3.2OLED的载流子传输

9.3.3OLED的载流子复合发光

9.3.4光出射过程与提升出光效率的方法

9.4有源矩阵OLED显示中的像素电路

9.4.1V/I变换的像素电路

9.4.2具有补偿功能的像素电路

9.5全彩色OLED显示器件主要制作技术

9.5.1TFT背板工艺

9.5.2OLED发光单元

9.5.3封装和钝化

9.6OLED性能退化机制

9.7现有问题和未来展望

习题与思考

第10章发光二极管显示

10.1简介

10.2LED的原理和制造

10.2.1半导体的光学性质

10.2.2LED的pn结和基板结构

10.3LED的性能

10.3.1内量子效率

10.3.2光提取效率

10.3.3LED的参数

10.3.4下转换的白光LED

10.4LED显示屏

10.4.1LED显示屏的技术指标

10.4.2LED的驱动

10.4.3实现灰度和亮度的调整

10.4.4LED显示屏的基本构成

10.4.5LED全彩色显示屏的关键技术

习题与思考

第11章电致发光显示

11.1交流粉末电致发光

11.1.1背景

11.1.2AC粉末EL器件的结构和材料

11.1.3AC粉末EL器件的发光机理

11.2交流薄膜电致发光

11.2.1背景

11.2.2薄膜电致发光的工作原理

11.2.3厚膜电致发光显示器

11.3结论

习题与思考

第12章大屏幕投影显示

12.1大屏幕显示的特点和发展历史

12.1.1大屏幕显示的特点

12.1.2大屏幕投影显示的历史

12.2现代投影显示系统

12.2.1液晶投影显示

12.2.2DLP投影显示

12.2.3LCoS投影显示(反射型液晶投影仪)

12.2.4常见投影显示技术比较

12.3激光投影显示

12.3.1面阵空间光调制器的投影成像方式

12.3.2基于扫描的激光投影显示

12.3.3激光投影显示的优缺点

习题与思考

第13章触摸屏

13.1触摸屏或触摸系统简介

13.2模拟和数字电阻式触摸屏

13.2.1四线电阻触摸屏

13.2.2八线电阻触摸屏

13.2.3五线电阻触摸屏

13.3电容式触摸屏

13.3.1表面电容式的触摸屏

13.3.2投射电容式的触摸屏

13.4光学触摸屏

13.4.1扫描红外触摸屏

13.4.2基于摄像机的光学触摸屏

13.5表面声波触摸屏

13.6在单元内

13.7手机触摸屏概况

习题与思考

缩略语

参考文献

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