光学非球面镜可控柔体制造技术

第1章 非球面光学研抛技术
1．1 光学非球面的优点及应用
1．1．1 光学非球面的优点
1．1．2 非球面光学元件在军用装备的应用
1．1．3 非球面光学元件在民用装备的应用
1．2 光学非球面加工的特点
1．2．1 光学系统对非球面光学元件的要求
1．2．2 非球面光学元件的加工分析
1．3 超光滑表面加工技术
1．3．1 超光滑表面及应用
1．3．2 超光滑表面加工技术概述
1．3．3 机械微切削的超光滑表面加工技术
1．3．4 传统游离磨料抛光的超光滑表面加工技术
1．3．5 非接触超光滑抛光原理和方法
1．3．6 化学机械抛光超光滑表面加工方法
1．3．7 磁场效应辅助超光滑表面加工技术
1．3．8 粒子流超光滑表面加工技术
1．4 非球面光学研抛技术
1．4．1 非球面光学元件的经典研抛方法
1．4．2 非球面光学元件的数控研抛方法
1．4．3 非球面光学元件的可控柔体制造技术
1．5 基于弹性力学理论的可控柔体制造技术
1．5．1 基于应力变形原理的非球面加工方法
1．5．2 气囊进动抛光技术
1．6 基于多能场的可控柔体制造技术的关键共性理论
1．6．1 材料去除机理与数学模型
1．6．2 多参数控制策略
1．6．3 4D数控技术
1．6．4 误差演变理论与控制技术
1．6．5 可控柔体光学制造装备技术
参考文献
第2章 非球面光学研抛基础理论
2．1 Preston方程及其应用
2．2 非球面加工的确定性成形原理
2．3 非球面加工的成形过程理论分析
2．3．1 非球面加工的成形过程双级数模型
2．3．2 去除函数尺寸大小影响
2．3．3 去除函数扰动影响
2．3．4 定位误差影响
2．3．5 离散间隔影响
2．4 全口径线性扫描方式面形修正理论
2．4．1 基于Bayesian的迭代算法
2．4．2 脉冲迭代方法
2．4．3 截断奇异值分解法
2．5 极轴扫描方式面形修正理论
2．5．1 去除函数具有回转对称特性
2．5．2 去除函数不具有回转对称特性
2．6 修形的频域分析
2．6．1 一般修形条件下的频谱特征
2．6．2 回转对称型去除函数的修形能力
2．7 熵最大研抛原理
2．7．1 研抛熵原理表述
2．7．2 最大熵原理在定偏心平面研抛中应用的实例
2．7．3 基于最大熵原理的双转子小工具加工工艺参数选择的实例
2．7．4 基于熵增原理抑制磁流变修形中、高频误差的实例
参考文献
附录A 两维Hermite级数
附录B 两维Fouier级数
附录C 驻留时间双级数模型求解
附录D 驻留时间双级数模型求解误差分析
第3章 基于小研抛盘工具的CCOS技术
3．1 基于小研抛盘工具的CCOS技术综述
3．1．1 小工具CCOS技术进展
3．1．2 小工具CCOS技术的关键问题
3．2 AOCMT光学非球面加工机床
3．3 去除函数的建模与分析
3．3．1 理想去除函数的特性
3．3．2 理论模型
3．3．3 实验模型
3．3．4 去除函数的修形能力分析
3．3．5 复杂形状研抛盘去除函数的建模和特性分析
3．4 CCOS技术中驻留时间算法及分析
3．4．1 基于加工时间的脉冲迭代法
3．4．2 卷积效应对残留误差的影响
3．5 边缘效应分析与去除函数建模
3．5．1 研抛盘露边时的压力分布
3．5．2 边缘效应下的去除函数建模
3．6 光学表面小尺度制造误差的产生原因与修正方法
3．6．1 小尺度制造误差的产生原因与评价方法
3．6．2 小尺度制造误差的全口径均匀抛光修正法
3．6．3 小尺度制造误差的确定区域修正法
3．7 大中型非球面研抛加工控制策略及实验
3．7．1 制造工艺路线和研抛加工控制策略
3．7．2 φ500mm抛物面镜加工实验
参考文献
第4章 离子束抛光技术
4．1 离子束抛光技术概述
4．1．1 离子束加工技术应用
4．1．2 离子束抛光的基本原理与特点
4．1．3 离子束抛光技术的发展
4．2 离子束抛光的基本理论
4．2．1 离子溅射过程描述
4．2．2 离子束抛光材料去除率
4．3 离子束抛光去除函数建模分析
4．3．1 离子束抛光去除函数理论建模
4．3．2 离子束抛光去除函数模型特性分析
4．3．3 离子束抛光去除函数实验建模
4．4 离子束加工系统设计与分析
4．4．1 系统构建
4．4．2 系统分析
4．5 离子束抛光面形误差收敛与精度预测
4．6 离子束抛光的小尺度误差演变
4．6．1 表面粗糙度演变
4．6．2 微观形貌演变
4．7 离子束抛光实验
4．7．1 平面修形实验
4．7．2 曲面修形实验
参考文献
第5章 磁流变抛光技术
5．1 磁流变抛光技术概述
5．1．1 磁流体的应用
5．1．2 磁场效应辅助抛光技术的发展状况
5．1．3 确定性磁流变抛光技术发展状况
5．2 磁流变抛光材料去除机理与数学模型
5．2．1 磁流变抛光的材料去除机理
5．2．2 单颗磨粒所受载荷与压入深度理论计算
5．2．3 磁流变抛光区域流体动力学分析与计算
5．3 磁流变抛光机床
5．3．1 磁流变抛光机床结构的基本要求
5．3．2 磁流变抛光实验样机的机床结构
5．3．3 倒置式磁流变抛光装置的设计
5．3．4 磁流变液的循环控制系统
5．4 磁流变抛光液及其性能测试
5．4．1 磁流变抛光液研制的发展现状
5．4．2 磁流变液的组成成分及性能评价
5．4．3 磁流变液的组成选择原则
5．4．4 磁流变抛光液配制实例
5．4．5 磁流变抛光液的性能测试
5．5 磁流变抛光工艺参数优化
5．5．1 磁流变抛光工艺参数正交实验
5．5．2 灰色关联分析
5．5．3 多项工艺指标的参数优化
5．5．4 加工过程综合优化
5．6 磁流变抛光的光学表面修形技术及加工实例
5．6．1 磁流变抛光的光学表面修形技术
5．6．2 磁流变抛光驻留时间求解基本算法
5．6．3 磁流变抛光实例
5．7 磁射流抛光的光学表面修形技术
5．7．1 磨料射流抛光技术概述
5．7．2 磁射流聚束稳定性分析
5．7．3 磁射流抛光去除机理的CFD分析
5．7．4 磁射流抛光修形实验
参考文献
第6章 确定性光学加工误差的评价方法
6．1 概述
6．2 常用的光学加工误差评价方法
6．2．1 光学加工误差的几何精度评价参数
6．2．2 基于功率谱密度特征曲线的光学加工误差评价
6．2．3 基于散射理论的光学加工误差评价
6．2．4 基于统计光学理论的光学加工误差评价
6．3 光学加工误差分布特征的分析方法
6．3．1 光学表面任意方向加工误差的评价与分析
6．3．2 光学表面局部误差的评价与分析
6．3．3 工艺方法对光学加工误差的影响分析
6．4 光学加工误差的散射性能评价方法
6．4．1 光学加工误差的二进频带划分方法
6．4．2 基于Harvey-Shack散射理论的误差评价方法
6．4．3 光学加工误差对散射性能的影响分析
6．5 基于光学性能分析的频带误差评价方法
6．5．1 不同频带误差对光学性能的影响特点
6．5．2 光学系统应用场合对频带误差的要求
6．5．3 φ200mm抛物面镜离子束加工误差的评价
参考文献