光学真空镀膜技术

前言
第1章 光学镀膜基础1
1.1光学薄膜理论基础1
1.1.1平面电磁波在单一界面上的反射和折射1
1.1.2菲涅尔公式2
1.1.3光学薄膜特性的理论计算8
1.2光学薄膜设计12
1.2.1增透膜的设计12
1.2.2高反膜的设计16
1.2.3分光膜的设计18
1.2.4干涉滤光片21
1.3光学薄膜材料26
1.3.1金属薄膜材料26
1.3.2介质和半导体薄膜材料28
1.3.3金属膜与介质膜的比较33

第2章光学薄膜制备技术34
2.1真空及真空设备34
2.1.1真空技术知识及主要术语定义34
2.1.2获得真空所需的设备40
2.1.3真空的测量47
2.2热蒸发镀膜工艺51
2.2.1热蒸发镀膜机理介绍51
2.2.2热蒸发镀膜工艺分类61
2.2.3离子束辅助沉积工艺介绍69
2.2.4影响热蒸发镀膜质量的工艺参数74
2.3溅射镀膜工艺85
2.3.1溅射镀膜机理介绍85
2.3.2溅射镀膜工艺分类86
2.3.3影响溅射镀膜质量的工艺参数114

第3章光学薄膜检测技术118
3.1光学薄膜反射率和透过率测量118
3.1.1光谱分析测试系统原理118
3.1.2薄膜透过率测量120
3.1.3薄膜反射率测量121
3.1.4影响测量准确度的因素122
3.2光学薄膜厚度的测量123
3.2.1干涉法测量薄膜厚度123
3.2.2轮廓法测量薄膜厚度124
3.2.3其他测量方法125
3.3光学薄膜激光损伤阈值测量125
3.3.1光学薄膜损伤测量标准及判定125
3.3.2几类激光损伤阈值测量方法介绍125
3.3.3激光损伤测试装置126
3.3.4 1 on 1损伤测试标准过程127
3.4光学薄膜其他参数测量128
3.4.1薄膜的吸收和散射测量128
3.4.2薄膜材料折射率测量131
3.4.3薄膜散射测量133
3.4.4薄膜折射率测量135
参考文献138