高纯半导体基础原料及化合物制备技术（精）

1 绪论
1．1 半导体材料的性质及分类
1．1．1 半导体材料的性质
1．1．2 半导体材料的分类
1．2 半导体材料的发展历程
1．3 半导体材料的应用领域
1．3．1 半导体照明
1．3．2 电力电子器件
1．3．3 新能源领域
1．3．4 移动通信领域
1．3．5 军事领域
1．4 半导体产业的发展现状及趋势
1．4．1 半导体产业的发展现状
1．4．2 半导体产业的未来发展趋势
1．5 半导体基础原料的来源
1．6 高纯金属材料的发展状况
2 半导体基础元素
2．1 硒的性质和用途
2．1．1 概述
2．1．2 硒的性质
2．1．3 硒的用途
2．1．4 硒的产量和消费需求
2．2 碲的性质和用途
2．2．1 概述
2．2．2 碲的性质
2．2．3 碲的用途
2．2．4 碲的产量和消费需求
2．3 铋的性质和用途
2．3．1 概述
2．3．2 铋的性质
2．3．3 铋的用途
2．3．4 铋的产量和消费需求
2．4 锑的性质和用途
2．4．1 概述
2．4．2 锑的性质
2．4．3 锑的主要用途
2．4．4 锑的产量和消费需求
2．5 砷的性质和用途
2．5．1 概述
2．5．2 砷的性质
2．5．3 砷的用途
2．5．4 砷的产量和消费需求
3 半导体基础原料的生产技术
3．1 概述
3．2 硒的生产
3．2．1 火法处理回收硒
3．2．2 湿法处理回收硒
3．2．3 加压浸出-火法吹炼回收硒
3．2．4 选冶联合工艺回收硒
3．2．5 硒精炼
3．2．6 微波干燥技术在硒精炼中的应用
3．3 铋的生产
3．3．1 铋火法冶金技术
3．3．2 铋精炼
3．3．3 铅铋合金的处理
3．3．4 烟气治理
3．4 碲的生产
3．4．1 硫酸化焙烧法
3．4．2 分铜渣碱浸分碲
3．4．3 分金液回收碲
3．4．4 加压浸出液回收碲
3．4．5 火法吹炼造碲渣
3．4．6 碲电积
3．5 锑的生产
3．5．1 锑氧粉的生产
3．5．2 锑白的生产
3．5．3 锑精炼
3．6 砷的生产
3．6．1 碱性氧压浸出
3．6．2 砷碱渣的处理
3．6．3 砷精炼
4 高纯半导体原料制备技术
4．1 概述
4．2 提纯方法
4．2．1 真空蒸馏提纯法
4．2．2 区域熔炼提纯法
4．2．3 化学提纯法
4．3 高纯硒的制备
4．3．1 概述
4．3．2 高纯硒的用途
4．3．3 高纯硒的制备技术
4．4 高纯锑的制备
4．4．1 概述
4．4．2 高纯锑的用途
4．4．3 高纯锑的制备技术
4．5 高纯铋的制备
4．5．1 概述
4．5．2 高纯铋的用途
4．5．3 高纯铋的制备技术
4．6 高纯碲的制备
4．6．1 概述
4．6．2 高纯碲的用途
4．6．3 高纯碲的制备技术
4．7 高纯砷的制备
4．7．1 概述
4．7．2 高纯砷的用途
4．7．3 高纯砷的制备技术
5 化合物半导体制备技术
5．1 硫系玻璃的制备
5．1．1 概述
5．1．2 硫系玻璃的制备技术
5．2 碲化镉的制备
5．2．1 概述
5．2．2 碲化镉化合物的制备方法
5．2．3 碲化镉粉末预处理
5．2．4 碲化镉靶材烧结技术
5．2．5 靶材烧结致密机理
5．3 砷化镓的制备
5．3．1 砷化镓的性质
5．3．2 砷化镓的用途
5．3．3 砷化镓多晶合成
5．3．4 砷化镓单晶生长
5．4 碲锌镉晶体的制备
5．4．1 概述
5．4．2 碲锌镉的制备技术
5．5 锑化铟的制备
5．5．1 概述
5．5．2 锑化铟的制备技术
5．6 碲化铋的制备
5．6．1 Bi2Te3基热电材料概述
5．6．2 Bi2Te3基热电材料的制备技术
参考文献