图14新读写磁头技术对延续磁录密度改善轨道的影响资料来源：《磁盘/趋势报告》各期公布的数据。这些新技术超越原技术的性能的方式类似于一系列相互交叉的S形曲线。出现这种S形曲线走势的原因通常在于现有技术方法的渐进性改善，而过渡到下一条技术曲线的跳跃式发展则表明行业采用了一种突破性新技术。在图14描绘的情况中，渐进性的技术改善（例如更加精细地研磨铁氧体磁头，更加精确的尺寸，在磁盘表面使用更小、分布更均匀的氧化颗粒）推动磁录密度从1976年的每平方英寸1Mb提高到1989年的每平方英寸20Mb。正如S形曲线所预测的那样，铁氧技术可实现的磁录密度的改善幅度在这一阶段（1976~1989年）的末期开始变得平缓，表明该项技术已经成熟。薄膜磁头和磁盘技术对硬盘驱动器行业的影响就是延续了硬盘驱动器性能一直以来的改善速度。薄膜磁头在20世纪90年代初还未发展成熟，而此时便已出现了更加先进的磁阻技术，它的出现延续甚至是加快了硬盘驱动器性能的改善速度。

图15揭示了一种性质完全不同的延续性技术变革――产品结构创新。由于产品结构创新的出现，14英寸温切斯特硬盘取代了在1962至1978年普遍采用的可移动磁盘组设计。正如薄膜磁盘取代铁氧体磁盘一样，温切斯特技术延续了长久以来的磁盘性能改善速度。硬盘驱动器行业的其他大多数技术创新（例如，嵌入式伺服系统、运行长度限制记录码（RLL）和部分响应最大似然技术（PRML）、每分钟转数更高的电机和嵌入式接口）的性能改善曲线也大致相同。其中一些技术创新是较为直观的技术改善，其他则是突破性的技术飞跃。但所有的技术创新都会给硬盘驱动器行业带来相同的影响：它们帮助制造商延续了消费者所希望看到的历史性能改善幅度。图11和12中描绘的技术变革范例介绍了有关“非连续性”这一个不规范术语的两种释义。图14中所描绘的磁头和磁盘技术变革代表了成熟技术轨线的正向非连续性，而图17中所描绘的破坏性技术轨线则代表了反向非连续性。正如下文将谈到的那样，成熟企业在面临正向非连续性时似乎总是能够引领行业潮流，但在面对反向非连续性时却往往丧失其行业龙头地位。

图15温切斯特结构对14英寸硬盘磁录密度的延续性影响资料来源：《磁盘/趋势报告》各期公布的数据。

在硬盘驱动器行业的几乎每一次延续性技术变革中，成熟企业都在技术的研发和商业化运作中处于领先地位。新磁盘和磁头技术的出现便证明了这一点。